現(xiàn)隱肉湯微生物培養(yǎng)基、細(xì)胞培養(yǎng)基、菌種培養(yǎng)基、進(jìn)口培養(yǎng)基、國(guó)產(chǎn)培養(yǎng)基公司現(xiàn)貨直銷,培養(yǎng)基價(jià)格、培養(yǎng)基報(bào)價(jià)、培養(yǎng)基批發(fā),歡迎有培養(yǎng)基需要的科研工作者! 現(xiàn)隱肉湯選擇性培養(yǎng)基 •選擇性培養(yǎng)基均含有營(yíng)養(yǎng)物(增菌劑)和抑菌劑(選擇劑)。 •標(biāo)本接種于這類培養(yǎng)基后,由于抑菌劑的選擇性抑制作用,使所要分離的病原菌得到較好的繁殖,而其他菌被抑制。 •抑菌劑的種類很多,如孔雀綠、煌綠、檸檬酸鈉、膽鹽、四磺磺酸鈉等,但抑菌劑的加入量需準(zhǔn)確,有的可能水溶液無(wú)菌配制冷藏備用,有的又不耐高熱,配制無(wú)需高壓滅菌。 更多相關(guān)產(chǎn)品:H215NCO(CH2)2CH(NH2)CO2H 1ANM 59681-32-2 2-乙氧基-3-甲氧基苯甲醛 2-Ethoxy-3-methoxybenzaldehyde C18H34O6 0FVU 16111-62-9 過氧化二碳酸雙(4-叔丁基環(huán)己基)酯 Initiator TBCP H215NCH2CH2CH2CH215NH2·2HCl 169V 2747-92-4 芴甲氧羰基-N-三苯-L-天冬酰胺 Fmoc-N-trityl-L-asparagine C22H38O6 0FVV 15520-11-3 過氧化環(huán)己酮 Cyclohexanone peroxide H215NCH213CO2H 1C4K 112898-03-0 4-氟-2-鎂溴化物 4-Fluoro-2-methylphenylmagnesium bromide solution C12H22O4 0FVX 78-18-2 引發(fā)劑K Initiator K H215NCH213CO2H 1C4K 112898-03-0 4-氟-2-鎂溴化物 4-Fluoro-2-methylphenylmagnesium bromide solution C18H34O4 0FVY 3851-87-4 鄰苯二甲酸二仲辛酯 Dicapryl phthalate H215N15NH2 · H2O 15EM 145571-73-9 季戊四醇丙氧基丙烯酸酯 Pentaerythritol propoxylate triacrylate C24H38O4 0FW0 131-15-7 鄰苯二甲酸二癸酯 Didecyl phthalate H215N15NH2 · H2O 15EM 145571-73-9 季戊四醇丙氧基丙烯酸酯 Pentaerythritol propoxylate triacrylate C28H46O4 0FW1 84-77-5 亞磷酸-苯二辛酯 Phenyl dioctyl phosphite H215N13CS15NH2 0FGF 285977-83-5 L-丙氨酸-2-13C,15N L-Alanine-2-13C,15N C22H39O3P 0FW3 3164-60-1 環(huán)氧硬脂酸丁酯 Epoxidized butyl stearate H215N13CO15NH2 1ALH 58069-83-3 L-丙氨酸-3-13C L-Alanine-3-13C C22H42O3 0FW4 106-83-2 均苯四甲酸四異辛酯 Tetra-2-ethylhexyl pyromelltate H215N13CH2CO2H 1BQX 91795-59-4 2-丙基-1H-茚 2-Propyl-1H-indene C42H70O8 0FW5 3126-80-5 三鹽基硫酸鉛 lead sulfate tribasic H215N13CH2CO2H 1BQX 91795-59-4 2-丙基-1H-茚 2-Propyl-1H-indene 3PbO?PbSO4?H2O 0FW7 12202-17-4 二鹽基鄰苯二甲酸鉛 lead phthalate dibasic H215N13CH213CH213CO2H 0FGJ 285978-07-6 Fmoc-Gly-OH-13C2,15N Fmoc-Gly-OH-13C2,15N C8H4O6Pb3 0FW8 69011-06-9 二鹽基硬脂酸鉛 lead stearate dibasic H215N13CH2(CH2)3CH(NH2)CO2H·2HCl 0ESZ 312623-81-7 甲酸鈉-2,3-13C2 Sodium fumarate-2,3-13C2 C36H70O6Pb2 0FW9 56189-09-4 紫外線吸收劑UV-531 Ultraviolet absorbent UV-531 H215N13CH2(CH2)3CH(NH2)CO2H·2HCl 0ESZ 312623-81-7 甲酸鈉-2,3-13C2 Sodium fumarate-2,3-13C2 C21H26O3 0FWA 1483-05-6 H213C=13CH2 1A91 51915-19-6 聚(氧代-1,4-亞苯氧基-1,4-亞羰基-1,4-苯撐) Poly(oxy-1,4-phenyleneoxy-1,4-phenylenecarbonyl-1,4-phenylene) 二正辛基-雙-(巰乙酸-2-乙基已酯)錫 Di-n-octyltin(2-ethylhexyl thioglycollate H213C=13CH2 1A91 51915-19-6 聚(氧代-1,4-亞苯氧基-1,4-亞羰基-1,4-苯撐) Poly(oxy-1,4-phenyleneoxy-1,4-phenylenecarbonyl-1,4-phenylene) C36H72O4S2Sn 0FWB 15571-58-1 馬來酸二正辛基錫聚合物 Di-n-octyltin moleate polymer H20Na2O14S 0K0H 7727-73-3 C20H36O4Sn 0FWC 16091-18-2 光穩(wěn)定劑 2002 Light stability agent 2002 H2 15AD 1333-74-0 氯鉻酸吡啶鎓 Pyridinium chlorochromate C34H56NiO8P2 0FWD 30947-30-9 光穩(wěn)定劑AM-101 Light stability agent AM-101 H18N3O43PW12 0LH4 12704-02-8 N,N'-二乙基-1,6-二氨基己烷 N,N'-Diethyl-1,6-diaminohexane C20H40O2SNi 0FWE 20649-88-1 光穩(wěn)定劑1084 Light stability agent 1084 H15N18O3 0EXR 342394-85-8 C32H51NNiO2S 0FWF 14516-71-3 光穩(wěn)定劑GW-540 Light stability agent GW-540 H15N18O3 0EXR 342394-85-8 C30H60N3O3P 0FWG 95733-09-8 紫外線吸收劑UV-B UltravioletabsorbentUV-B H14O7CeCl3 0NZY 18618-55-8 氯化銫 Caesium Chloride Dihydrate C20H18O3 0FWH 38612-07-6 銻酸鈉 Sodium antimonate H14O7CeCl3 0NZY 18618-55-8 氯化銫 Caesium Chloride Dihydrate NaSb(OH)6 0FWM 158166-43-9 磷酸二(2,3-二氯丙基)辛酯 Di(2,3-dichloropropyl)octyl phosphate H14CHO 16BZ 3046-49-9 C14H27O4PCl4 0FWQ 64661-03-6 四(2,3-二溴丙基)乙二醇雙膦酸酯 Tetra(2,3-dibromopropyl)glycol diphosphate H13CON(CH3)C6H5 1AR8 61655-07-0 D-葡萄糖-13C6 D-Glucose-13C6 C14H28O8Br8P2 0FWR 95896-77-8 磷酸胍 Guanidine phosphate 鑒別培養(yǎng)基 •鑒別培養(yǎng)基有一般鑒別培養(yǎng)基和選擇性鑒別培養(yǎng)基之分。 •用于區(qū)別不同微生物種類的培養(yǎng)基稱為一般鑒別培養(yǎng)基,此類培養(yǎng)基中一般不加抑菌劑而只含指示劑。 •在培養(yǎng)基中加入某種抑制劑和指示劑,以抑制某些細(xì)菌生長(zhǎng),而促進(jìn)某種病原菌的繁殖,并使菌落具有一定特征,以助鑒別、分離。這類培養(yǎng)基稱為選擇性鑒別培養(yǎng)基。 厭氧菌培養(yǎng)基 •厭氧菌的分離、培養(yǎng)和鑒別用的培養(yǎng)基,稱為厭氧菌培養(yǎng)基。 •由于厭氧菌自身缺乏有氧代謝*的各種酶,所以厭氧菌在正常的大氣環(huán)境下既不能生長(zhǎng)又不能生存。 •通常用心、腦或其他臟器浸液配制厭氧菌培養(yǎng)基,并常需加入硫乙醇酸鈉、半胱氨酸、葡萄糖、肝塊、肉渣、還原鐵、脫脂棉或活性炭等還原劑和除氧材料 厭氧菌培養(yǎng)基 •在液體培養(yǎng)基中還可加入刃天青或美蘭作氧化還原指示劑以觀察培養(yǎng)基的含氧程度。 •使培養(yǎng)基保持較低的氧化還原電勢(shì),以保證厭氧菌生長(zhǎng)的良好環(huán)境。也可在培養(yǎng)基表面加液體石蠟。 |